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PECVD系统应用的说明

日期:2022-07-10 07:00
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摘要:
 PECVD主要是对半导体材料硅的溅射。

PECVD系统应用:

    1. 广泛应用于MEMS、先进封装、功率半导体、LED制造、RF集成电路等领域

    2. 放射方式对称工艺气体显著提高晶圆片内均匀性(WIW)

    3. 多达10路气体管路,可选on-board液体输送系统

    4. 复合频率等离子体能力调节应力

    5. 有源冷却平台应用在关键,低温[小于175°C]封装工艺

    6. 可选敏感的de-gassing衬底材料增加单/多晶圆预加热腔室

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