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真空镀膜设备的产品特点

日期:2022-07-06 23:25
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摘要:
    真空镀膜设备,主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

产品特点

    采用箱式结构,真空系统后置,便于操作和维修;整机表面平整,方便清洁,特别适合放置在净化间内做穿墙式安装。

    设备真空系统抽速大,具有抽气时间短,真空度高,生产周期短等优点。

    采用管状加热器上烘烤,烘烤温度均匀,寿命长,可达到烘烤温度350℃,烘烤均匀性270℃±10℃。

    工件转动采用上部中心驱动,轴承带水冷,磁流体密封,转动平稳。

    采用石英晶体膜厚控制仪,可实现镀膜过程的自动控制。

    采用镀膜控制系统,人机操作界面美观实用,系统稳定,可实现系统的手动、半自动和全自动操作。

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