产品详情
  • 产品名称:台式紧凑型三靶磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:CY-VTC-3DC
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统,主要用于多层氧化物薄膜,是新一代氧化物薄膜研究中性价比*高的镀膜机 . 直流磁控溅射选项可根据要求提供金属薄膜沉积,实现三个直流、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置
详情介绍:

CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统,主要用于多层氧化物薄膜,是新一代氧化物薄膜研究中性价比*高的镀膜机 . 直流磁控溅射选项可根据要求提供金属薄膜沉积,实现三个直流、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置.

磁控溅射镀膜仪技术参数:

输入功率
 

·单相110V AC,50/60Hz

·1000W(含真空泵和冷水机)

磁控溅射靶
 

·包括三个带水冷夹套的 2" 磁控溅射头,通过快速夹具插入石英室

·射频电缆更换可在CYKY购买

·法兰上内置一个手动百叶窗

·包括一台10L/min数控循环冷水机,用于冷却溅射头

溅射靶材

·靶材尺寸要求:2" 直径 x 1/8" *大厚度

·溅射距离范围:50-80mm可调

·溅射角度范围:0-25°可调

·2"直径Cu靶和Al2O3靶包括用于演示测试

·可根据要求提供各种氧化物 2" 溅射靶材,但需额外付费

·对于目标键合,包括 1 mm 2 mm 铜背板。

真空腔体

·真空腔体:300 毫米外径 x 500 毫米高,由不锈钢制成

·密封法兰:直径274毫米。由铝制成,带有高温硅胶O型圈

·包括不锈钢屏蔽笼,100% 屏蔽来自腔室的射频辐射

·*大真空度:1.0E-5 Torr,可选配涡轮泵和腔体烘烤

样品台

·样品台是一个可旋转的加热台,由陶瓷加热器制成,带有不锈钢盖

·样品台尺寸:直径50毫米,适合*大 2" 晶圆

·转速:1-10转可调,涂层均匀

·支架温度可从室温调节至*高 600 °C600 °C 时*高 5 分钟;500 °C 时*高 2 小时),通过数字温度控制器精度为 +/- 1.0 °C

真空泵 

·内置KF40真空接口,用于连接真空泵。

·真空度:1.0E-2 Torr 含双级机械泵

1.0E-3 Torr 带可选涡轮泵

整机尺寸

540 mm L x 540 mm W x 1000 mm H

包装重量

大约 145 kg

保修单

一年有限保修,终身支持

是否支持定制

 

豫公网安备 41019702002438号

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