产品详情
  • 产品名称:单靶直流磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:CY-MSP300S-DC
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等
详情介绍:

单靶直流磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、??榛?、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选择;所配电源为1500W大功率直流电源,可用于高能量的金属溅射镀膜,根据实验需求也可以选配其他规格的直流或者射频电源来实现各种材料的镀膜操作。

 单靶直流磁控溅射镀膜仪

镀膜仪具有两路高精度质量流量计,客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路,以满足复杂的气体环境构建需求;仪器标配先进的涡轮分子泵组,极限真空可达1.0E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制,可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品,大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制,在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能,可以进一步提高您的实验效率。

单靶磁控溅射镀膜仪适用范围:

该设备可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

单靶磁控溅射镀膜仪技术参数:

单靶直流磁控溅射镀膜仪

外形尺寸

φ185mm

加热范围

室温500

可调转速

1-20rpm可调

靶材平面

圆形平面靶

溅射真空

10Pa0.2Pa

靶材直径

5050.8mm

靶材厚度

25mm

绝缘电压

>2000V

电缆规格

SL-16

靶头温度

65

内壁处理

电解抛光

腔体尺寸

φ300mm × 300mm

腔体材料

304不锈钢

观察窗口

石英窗口,直径φ100mm

开启方式

上顶开启,气缸辅助支撑

流量控制

质量流量计,量程0200SCCM氩气

调节阀类型

电磁调节阀

调节阀静止状态

常闭

测量线性度

±1.5%F.S

测量重复精度

±0.2%F.S

测量响应时间

8秒(T95

工作压差范围

0.3MPa

阀体耐压

3MPa

工作环境温度

545)℃

阀体材料

不锈钢316L

阀体漏率

1×10-8Pa.m3/s

管道接头

1/4″卡套接头

输入输出信号

05V

供电电源

±15V(±5%)(+15V  50mA,  15V  200mA

外形尺寸mm

130(宽)×102(高)×28(厚)

通讯接口

RS485 MODBUS协议

直流电源

电源功率

500W

输出电压

0600V

定时长度

65000

启动时间

110

电源要求

DC:5V(±10%) *大电流 400mA

分辨率

±0.03Hz(5-6MHz),0.0136? /测量()

测量精度

±0.5%厚度+1计数

测量周期

100mS1S/次(可设置)

测量范围

500,000 ? ()

晶体频率

6MHz

通讯接口

 RS-232/485串行接口

显示位数

8LED显示

分子泵

分子泵抽速

80L/S

额定转速

65000rpm

振动值

0.1um

启动时间

4.5min

?;奔?span>

<7min

冷却方式

风冷

 

冷却水温度

37

冷却水流速

1L/min

安装方向

垂直±5°

抽气接口

150CF

排气接口

KF40

前级泵

抽气速率

1.1L/S(VRD-4)

极限真空

5×10-2Pa

供电电源

AC:220V/50Hz

电机功率

400W

噪音

56db

抽气接口

KF40

排气接口

KF25

放气阀

真空腔体上装有气动电控放气阀

整机极限真空

5×10-4Pa

真空腔体升压率

2.5Pa/h

软件系统

监控管理软件1

测试靶材

直径2英寸厚度3mm的铜靶材2


豫公网安备 41019702002438号

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