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  • 产品名称:离子源电子束蒸发镀膜仪

  • 产品型号:
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
该电子束蒸发方式镀膜仪,主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜,微纳器件微加工,电镜样品预处理等,尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜
详情介绍:

该电子束蒸发方式镀膜仪,主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜,微纳器件微加工,电镜样品预处理等,尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜。

电子束蒸发镀膜仪设备技术参数

使用条件

环境温度

5℃~40

电源

380V

功率

20KW

水压

2.5bar

真空室尺寸

蒸发室尺寸

φ500×H500()

过渡仓库

φ280×H300()

电子枪

新型电子枪1套,6穴坩埚

离子源

考夫曼离子源K08一套

样品转盘

样品尺寸:≤φ150mm,样品可旋转,也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500

系统真空度

极限真空

12~24小时烘烤,连续抽气5x10-5Pa

 

抽气速率

从大气开始40分钟内真空度≤5x10-4Pa

 

系统漏率

整机漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵关机12小时后,测量真空室真空度≤10Pa

抽真空系统

TY1200分子泵+机械泵(VRD-30)系统,并设置旁路抽气

镀膜监测

采用TM160膜厚仪进行监测

镀膜厚度的不均匀度

≤3%

豫公网安备 41019702002438号

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