产品详情
  • 产品名称:PECVD镀膜仪

  • 产品型号:CY-PECVD-450
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
CY-PECVD-450化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,能够利用高能量等离子体促进反应过程,有效提升反应速度,降低反应温度。适用于在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件,可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
详情介绍:

技术参数:

产品型号

CY-PECVD-450

真空腔体

前开门式,φ300mm X 300mm 不锈钢材质

观察窗:φ100mm 带挡板

真空泵组

前级泵:旋片泵 抽速1.1L/s

次级泵:涡轮分子泵 抽速600L/s

极限真空度

10-6Pa

三十分钟内可达到 10-4Pa

沉积真空

0.133~133Pa,可根据工艺调整

射频电源

13.56MHz,500W,自动匹配

流量控制

质量流量计,默认 Ar气 0~200sccm

整机尺寸

1100mm x 800mm x1100mm

豫公网安备 41019702002438号

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