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快速退火炉的设备说明

日期:2022-07-09 10:28
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摘要:
  快速退火炉是利用卤素红外灯做为热源,通过极快的升温速率,将晶圆或者材料快速的加热到300℃-1200℃,从而消除晶圆或者材料内部的一些缺陷,改善产品性能。
  快速退火炉采用先进的微电脑控制系统,采用PID闭环控制温度,可以达到极高的控温精度和温度均匀性,并且可配置真空腔体,也可根据用户工艺需求配置多路气体。
  快速退火炉主要由真空腔室、加热室、进气系统、真空系统、温度控制系统、气冷系统、水冷系统等几部分组成。
  真空腔室:真空腔室是快速退火炉的工作空间,晶圆在这里进行快速热处理。
  加热室:加热室以多个红外灯管为加热元件,以耐高温合金为框架、高纯石英为主体。
  进气系统:真空腔室尾部有进气孔,**控制的进气量用来满足一些特殊工艺的气体需求。
  真空系统:在真空泵和真空腔室之间装有高真空电磁阀,可以有效确保腔室真空度,同时避免气体倒灌污染腔室内的被处理工件。
  温度控制系统:温度控制系统由温度传感器、温度控制器、电力调整器、可编程控制器、PC及各种传感器等组成。
  气冷系统:真空腔室的冷却是通过进气系统向腔室内充入惰性气体,来加速冷却被热处理的工件,满足工艺使用要求。
  水冷系统:水冷系统主要包括真空腔室、加热室、各部位密封圈的冷却用水。

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