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磁控溅射镀膜仪的主要功能

日期:2022-07-13 22:12
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摘要:
磁控溅射镀膜仪的主要功能
  磁控溅射镀膜仪是一种用于化学、材料科学、冶金工程技术、物理学领域的工艺试验仪器,于2006年12月30日启用。
技术指标 
  1、磁控溅射镀膜仪主真空室的本底真空优于2×10-8Torr;2、四英寸的基片范围内薄膜厚度均匀性优于±2%;3、可以溅射磁性和非磁性金属、进行直流和射频溅射;4、基片可以加热(800℃)、冷却(水冷);5、全自动控制;6、18英寸主溅射室;7、高真空泵抽系统;8、超高真空磁控溅射靶;直流/射频电源;9、4英寸样品台;10、PhaseII-J控制系统。
主要功能 
  磁控溅射镀膜仪纳米磁性薄膜制备设备,可以制备纳米磁性薄膜,能加热,共五个靶位。

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